تکنیک های نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی) دوره ای تا محدوده 50 نانو متر (دکترای نانو _ میکرو الکترونیک) 

پژوهشگر و نویسنده:  دکتر  (  افشین رشید)



نکته: تکنیک های نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی) دوره ای تا محدوده 50 نانو متر قادر به حذف مستقیم مواد بدون استفاده زیاد از مقاومت ها می باشد. به عنوان یک روش نانو لیتوگرافی مستقیم ، تعداد مراحل پردازش در مقایسه با روش های دیگر به حداقل می رسد.

تکنیک های نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی) دوره ای تا 50 نانو متر به عنوان یک تکنیک پی در پی نانولیتوگرافی ، بطور ذاتی کند است و توان عملیاتی آن بسیار کمتر از تکنیک های مختلف و منبع یون فلزی مایع بر پایه نانو اَدوات به گسترده ترین نوع منبع در تجهیزات نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی) دوره ای تا 50 نانو متر تبدیل شده است. با این حال ، در سال های اخیر ، تحولات جدیدی در منابع مانند منابع یون های میدان گازی  ، منابع پلاسما و منابع آلیاژی فلزی گام بعدی از نظر وضوح یا توان است.



از آنجایی که برهمکنش یون و ماده از الکترون -ماده قوی تر است ، می توان اثرات مضر بر روی مواد باقی مانده ایجاد کرد و خواص فیزیکی و شیمیایی آن را تغییر داد.کاربرد های مهم اما کلیدی برای فناوری نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی) در صنعت نیمه هادی ها ، در فناوری نانو و در علم مواد یافت شده است. و رسوب ناشی از نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی)  به سیستم تزریق گاز نیاز دارد تا از یک ماده پیش ساز که به شکل گاز تحویل داده می شود ، یک رسوب محلی را با تفکیک پیش ساز ایجاد شده توسط تابش مناسب در ادوات نانو الکتریکی تولید کند . مزیت اصلی این تکنیک رشد انتخابی یک ماده در منطقه مورد علاقه در یک مرحله است. با توجه به وضوح بالای تکنیک نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی)  ، رسوبات را می توان با وضوح جانبی بالا رشد داد ، اما با توجه به خسارت بسیار کمتر ایجاد شده در بستر با توجه به حرکت خطی پایین الکترونها در مقایسه با یونها. در مقابل ، نرخ رشد و محتوای فلز در رسوبات به طور کلی برای نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی)  به وجود آورده است.



نتیجه گیری :


 تکنیک های نانو لیتوگرافی (اَشعه نوری و الکترونی) دوره ای تا محدوده 50 نانو متر قادر به حذف مستقیم مواد بدون استفاده زیاد از مقاومت ها می باشد. به عنوان یک روش نانو لیتوگرافی مستقیم ، تعداد مراحل پردازش در مقایسه با روش های دیگر به حداقل می رسد.

پژوهشگر و نویسنده:  دکتر  (  افشین رشید)

دکترایِ  تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک