نانواِلکترونیک_پِلاسمونیک به منظور استفاده از پیشرفت های چشمگیر در علم الکترونیک در مِقیاس نانو
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
نکته: به منظور استفاده از پیشرفت های چشمگیر در علم الکترونیک در مقیاس نانو ، نیاز مبرم به فناوری های نانو ساختار چند منظوره و با کارایی بالا است که با تغییرات مکرر طراحی سازگار است. روشهای رایج نانو لیتوگرافی بدون ماسک ، مانند نانو لیتوگرافی پلاسمونی و لیتوگرافی کاوشگر اسکن ، می توانند انعطاف پذیری مطلوبی را ارائه دهند.
اما ثابت شده است که عمدتاً به دلیل قابلیت اسکن کُند و کم سرعت آنها محدود است.خواص فناوری لنزهای پلاسمونی به صورتی میباشد، که یک نقطه زیر 100 نانومتر را با شدت تقریبی 2 مرتبه بیشتر از نور حادثه فعال می کند. به منظور دستیابی به اسکن با سرعت بالا ، از استفاده می شود. با کنترل محدوده با توجه به موقعیت نانو لیتوگرافی پلاسمونی بر روی سطح مقاومت به نور ، الگوی نانویی خودسرانه با سرعت بالا با وضوح فضایی تا 80 نانومتر انجام میگیرد، چنین روش نانو ساخت کم هزینه و با کارایی بالا نوید یک مسیر جدید را در جهت تولید نانو نسل بعدی می دهد.این یک روش نانو لیتوگرافی بدون ماسک با کارایی بالا و با استفاده از لنزهای نوری پلاسمونی با سرعت بیش از 20 مایل در ساعت بالاتر از یک عکس نوری ایجاد کرده است. این تحقیق همچنین برای سایر فرآیندهای تولید نانو نیز قابل اجرا خواهد بود زیرا حرکت دقیق ستون فقرات هر فرآیند تولید نانو است.
نانو پلاسمونیک بر اساس فرآیند بَر هم کنش بین امواج الکترو مغناطیسی و الکترون های رسانش در فلزات با ابعاد نانو بیان شده است، به صورت تحلیلی دلیل افت سریع انرژی الکترون ها در عبور از فلزات میباشد و نتیجه گرفت این انرژی صرف حرکت تجمعی و نوسان گونه الکترون های آزاد فلز می شود و آن را پلاسمون نامید. این نانو ساختار ها متشکل از فلز و دی الکتریک می باشد که ابعاد آنها زیر طول موج تحریکی ( طول موج پرتویی که باعث تحریک امواج پلاسمونیک می شود) قرار دارد.در ساختمان تشکیل دهنده نانو ساختار های (نانو پلاسمونیک) حجم ایجاد شده میدان الکترومغناطیسی به صورت موضعی ، فشرده و بهبود یافته است. تغیرات اندک در دی الکتریکِ اطراف نانو حجم، بر روی تشدید پلاسمون های سطحی اثر می گذارد، به طوری که این تغییرات خود را در میزان پرتو پراکنده شده ، پرتو جذب شده و یا تغییر طول موج آن نشان می دهد.
نتیجه گیری :
به منظور استفاده از پیشرفت های چشمگیر در علم الکترونیک در مقیاس نانو ، نیاز مبرم به فناوری های نانو ساختار چند منظوره و با کارایی بالا است که با تغییرات مکرر طراحی سازگار است. روشهای رایج نانو لیتوگرافی بدون ماسک ، مانند نانو لیتوگرافی پلاسمونی و لیتوگرافی کاوشگر اسکن ، می توانند انعطاف پذیری مطلوبی را ارائه دهند.
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
دکترایِ تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک