بخش «نانو اِسپین اِلکترون ها» _ نانو اِلکترونیک

توانایی تولید نانو اِسپین اِلکترون های وسیع در سطوح غیر مُسطح برای بسیاری از کاربردها مانند نانو الکترونیک ، اُپتو الکترونیک

پژوهشگر و نویسنده:  دکتر  (  افشین رشید)


نکته: توانایی تولید ریز و نانو اِسپین اِلکترون های وسیع در سطوح غیر مسطح برای بسیاری از کاربردها مانند اپتیک ، اُپتو الکترونیک ، نانو فُوتونیک ، فناوری تصویربرداری ، NEMS و ریزسیالات مهم است. با این حال ، ایجاد نانو ساختار های بزرگ در سطوح منحنی یا غیر مسطح با استفاده از روش های الگوسازی موجود بسیار دشوار است. 

علاوه بر این ، انواع فناوری های «نانو اِسپین اِلکترون ها» الگوی فعلی مانند لیتوگرافی پرتو الکترونی  ، لیتوگرافی نوری ، لیتوگرافی تداخلی (IL) و غیره ، نمی توانند با تمام تقاضا های کاربردی کاربرد های صنعتی از نظر وضوح بالا ، توان بالا ، هزینه کم کنار بیایند. ، مساحت بزرگ و اُلگو های روی سطح غیر مسطح و خمیده. بنابراین ، فناوری جدید تولید نانو با حجم بالا به شدت نیاز به بهره برداری و توسعه دارد تا نیازهای فوق العاده بازار های رو به رشد را برآورده کند.لیتوگرافی نانو الکترونیکی در حال حاضر به عنوان یک روش نانو الگوی امیدوار کننده با هزینه کم ، توان بالا و وضوح بالا در نظر گرفته شده است ، به ویژه برای تولید الگو های مقیاس کوچک/نانو در مقیاس بزرگ و ساختار های پیچیده سه بعدی و همچنین جنبه های بالا ویژگی های نسبت با توجه به این مزایای برجسته نیز به وجود آورده است.تبدیل ساختار های نوری در ترکیب با ساخت وسعت وسیع به یک روش موثرتر  در این زمینه تبدیل می شود.

به طور کلی در «نانو اِسپین اِلکترون ها» خواص الکتریکی، نوری، مغناطیسی، سطحی و غیره این سه ساختار با یکدیگر تفاوت ‌های اساسی دارند و بالطبع کاربرد هایشان نیز متفاوت است.از نانو ساختار های یک بعدی می ‌توان برای اتصالات الکترونیکی استفاده کرد درحالی ‌که برای نانو مواد صفر بعدی و دو بعدی چنین کاربردی وجود ندارد.موادی که در هر سه بعد دارای اندازه ی نانو متری می باشند و هیچ بعد آزادی ندارند. بر اساس برخی دسته بندی ها به این دسته از «نانو اِسپین اِلکترون ها»، نانو ذرات نیز گفته می شود. عوامل تاثیرگذار بر خواص نانو ذرات، اندازه و جنس ذرات هستند.



نتیجه گیری :

توانایی تولید ریز و نانو اِسپین اِلکترون های وسیع در سطوح غیر مسطح برای بسیاری از کاربردها مانند اپتیک ، اُپتو الکترونیک ، نانو فُوتونیک ، فناوری تصویربرداری ، NEMS و ریزسیالات مهم است. با این حال ، ایجاد نانو ساختار های بزرگ در سطوح منحنی یا غیر مسطح با استفاده از روش های الگوسازی موجود بسیار دشوار است. 

پژوهشگر و نویسنده:  دکتر  (  افشین رشید)

دکترایِ  تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک