نانو الکترو لیتوگرافی و (تکنیک های رسوب لایه نازک) دکترای نانو _ میکرو الکترونیک
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
نکته: رویکرد های از بالا به پایین با استفاده از تکنیک های رسوب لایه نازک (پاشیدن ، اُپیتاکسی پرتو مولکولی ، رسوب لیزری پالسی ، رسوب بخار شیمیایی ، تبخیر حرارتی ، الکترود پهناوری و غیره) و تکنیک های نانو لیتوگرافی استفاده می شود.
دو رویکرد معمولاً دنبال می شود. در روش اول ، یک فیلم نازک (یا فیلم چند لایه) بر روی یک بستر ، با کنترل دقیق ضخامت لایه ، رشد می کند. بسته به همگن از روش رشد و تجهیزات رشد استفاده می شود، این منطقه از بستر می تواند ارزش های بزرگ در محدوده ده ها سانتی متر برسد ، یا فراتر از آن. در مرحله دوم ، یک روش لیتوگرافی برای اُلگو سازی فیلم به ابعاد جانبی میکرومتری یا نانومتری استفاده می شود و مواد را در مکانهای خاصی حذف می کند ، در رویکرد دوم ، مرحله نانو لیتوگرافی ابتدا بر روی بستر برهنه انجام می شود که پس از آن رشد مواد افزایش می یابد. این مورد به اصطلاح تکنیک بلند کردن است. ترکیبی از هر دو رویکرد در فرآیند های چند مرحله ای معمولاً برای ساختن دستگاه های پیچیده مورد نیاز است.
دستگاه های نوری یکپارچه و مجموعه های فرعی بر اساس عناصر نانو نوری مزایای مختلفی را درک می کنند. در مقایسه با اپتیک های فله معمولی ، اندازه و ویژگی های نوری آنها باعث می شود هم ترازی در مونتاژ بخشنده تر ، کم کارتر و کم هزینه تر باشد. هنگامی که از نظر فیزیکی با سایر نانو اپتیک ها یا سایر مواد در تولید ترکیب می شود و اپتیک یکپارچه یکپارچه را ایجاد می کند ، این امر ضمن افزایش قابلیت اطمینان ، عوارض و هزینه لمینت چند دستگاه را از بین می برد. همچنین ، دستگاههای نانو آرایه ای آرایه ای را می توان در مدارهای نوری چند پرتو یا چند مسیر استفاده کرد و نیازی به تراز جداگانه اپتیک های گسسته را از بین برد.به طور کلی ، فرایند ساخت عناصر نانو نوری انعطاف پذیر و قوی است ، که باعث صرفه جویی در هزینه فرآیند تولید در ایجاد اپتیک ترکیبی و یکپارچه می شود. مجدداً ، نوری حاصل اغلب کوچکتر ، قوی تر ، کاربردی تر و آسان تر برای جمع آوری است. از آنجا که دستگاه های نانو نوری با استفاده از فرایندهای مبتنی بر ویفر که در ساخت نیمه هادی تولید شده اند ، تولید می شوند ، این امر قابلیت اشتراک گذاری انعطاف پذیر در ظرفیت تولید را فراهم می کند و از توان تولیدی با حجم بالا پشتیبانی می کند.
نتیجه گیری :
رویکرد های از بالا به پایین با استفاده از تکنیک های رسوب لایه نازک (پاشیدن ، اُپیتاکسی پرتو مولکولی ، رسوب لیزری پالسی ، رسوب بخار شیمیایی ، تبخیر حرارتی ، الکترود پهناوری و غیره) و تکنیک های نانو لیتوگرافی استفاده می شود.
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
دکترایِ تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک