نانو لیتوگرافی پِلاسمونی و امکان الگوسازی مواد برای اَدوات و افزاره های الکترونیک با وضوح مقیاس نانو (دکترای نانو _ میکرو الکترونیک)
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
نکته: نانو لیتوگرافی پلاسمونی شامل مجموعه ای از تکنیک های ساخت از بالا به پایین است که امکان الگوسازی مواد برای اَدوات و افزاره های الکترونیک با وضوح مقیاس نانو را فراهم می کند. نانو لیتوگرافی در نانو الکترونیک با شیوه نانو لیتوگرافی پِلاسمونی و خود سازماندهی تکمیل می شود تا انواع زیادی از استراتژی های نانو ساختار را ارائه دهد.
به منظور استفاده از پیشرفت های چشمگیر در علم الکترونیک در مقیاس نانو ، نیاز مبرم به فناوری های نانو ساختار چند منظوره و با کارایی بالا است که با تغییرات مکرر طراحی سازگار است. روشهای رایج نانو لیتوگرافی بدون ماسک ، مانند نانو لیتوگرافی پلاسمونی و لیتوگرافی کاوشگر اسکن ، می توانند انعطاف پذیری مطلوبی را ارائه دهند ، اما ثابت شده است که عمدتاً به دلیل قابلیت اسکن کُند و کم سرعت آنها محدود است.خواص فناوری لنزهای پلاسمونی به صورتی میباشد، که یک نقطه زیر 100 نانومتر را با شدت تقریبی 2 مرتبه بیشتر از نور حادثه فعال می کند. به منظور دستیابی به اسکن با سرعت بالا ، از استفاده می شود. با کنترل محدوده با توجه به موقعیت نانو لیتوگرافی پلاسمونی بر روی سطح مقاومت به نور ، الگوی نانویی خودسرانه با سرعت بالا با وضوح فضایی تا 80 نانومتر انجام میگیرد، چنین روش نانو ساخت کم هزینه و با کارایی بالا نوید یک مسیر جدید را در جهت تولید نانو نسل بعدی می دهد.این یک روش نانو لیتوگرافی بدون ماسک با کارایی بالا و با استفاده از لنزهای نوری پلاسمونی با سرعت بیش از 20 مایل در ساعت بالاتر از یک عکس نوری ایجاد کرده است. این تحقیق همچنین برای سایر فرآیندهای تولید نانو نیز قابل اجرا خواهد بود زیرا حرکت دقیق ستون فقرات هر فرآیند تولید نانو است.
در اصل ، نانو لیتوگرافی پلاسمونی با سرعت بالا با وضوح نیمه گام (22 نانومتر) به ما اجازه می دهد تا ادوات نانو الکترونیکی تولید شود که می تواند ویفر 12 اینچی را در عرض چند دقیقه ایجاد کند. این با فوتولیتوگرافی معمولی در سطح تولید قابل مقایسه است اما در وضوح بسیار بالاتر از اندازه 22 نانو متر نیمه گام. این طرح جدید هزینه کم را امکان پذیر می کند ، تولید در مقیاس نانو بدون ماسک با کارایی بالا با چند مرتبه توان بالاتر از روش های معمولی بدون ماسک. ممکن است با استفاده از طول موج کوتاهتر نانو لیتوگرافی پلاسمونی و مکانیزم های هدایت ، مقیاس مستمر را به اندازه گِره کوچکتر از 22 نانو متر برساند و مسیری امیدوارکننده را برای لیتوگرافی نسل بعدی برای تولید نیمه هادی باز کند. علاوه بر این ، در ذخیره سازی داده های مغناطیسی نسل بعدی ، که به عنوان ادوات و افزاره های نانو الکترونیک با کمک حرارت و رسانه با الگوی نانو بیت شناخته می شود ، پتانسیل بالایی دارد تا در آینده ظرفیت دو مرتبه بالاتر داشته باشد.
نتیجه گیری :
نانو لیتوگرافی پلاسمونی شامل مجموعه ای از تکنیک های ساخت از بالا به پایین است که امکان الگوسازی مواد برای اَدوات و افزاره های الکترونیک با وضوح مقیاس نانو را فراهم می کند. نانو لیتوگرافی در نانو الکترونیک با شیوه نانو لیتوگرافی پِلاسمونی و خود سازماندهی تکمیل می شود تا انواع زیادی از استراتژی های نانو ساختار را ارائه دهد.
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
دکترایِ تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک