نانو لیتوگرافی روبِشی یا Scanning Nano Lithography (دکترای نانو _ میکرو الکترونیک)
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
نکته : نانو لیتوگرافی روبِشی یا Scanning Nano Lithography الگوی نانو اصلی یا بهبود یافته را در زمینه های کاربردی اعم از فناوری های کوانتومی تا علم مواد امکان پذیر می کند.
به طور خاص ، پردازش حرارتی فوق سریع و بسیار موضعی سطوح را می توان از طریق نوک گرم کننده تیز برای ایجاد الگو های با وضوح بالا به دست آورد. بسیاری از کاربرد های احتمالی تغییرات مقیاس نانو با کاوشگر های حرارتی مانند نانو لیتوگرافی روبِشی یا (Scanning Nano Lithography) هنوز در نانو الکترونیک کاربردی هستند ، به ویژه هنگامی که می توان از نرخ گرمایش و سرمایش فوق العاده بالا استفاده کرد.بسیاری از ریزسیستم ها و نانوسیستم ها نیاز به الگوهای دقیق مقیاس نانو دارند که عملکرد ذاتی از خود نشان دهند ، مانند برخی از خواص الکترونیکی ، فوتونی ، شیمیایی و مکانیکی. برای ساختن این الگوهای مقیاس نانو ، لیتوگرافی پرتو الکترونی متداول ترین تکنیک لیتوگرافی بدون نوشتن مستقیم و بدون ماسک است.نانو لیتوگرافی روبِشی یا (Scanning Nano Lithography) به نوری پیچیده سازگار با الکترون نیاز دارد تا پرتو الکترون را در نقطه ای چند نانومتری متمرکز کند. مسئله دیگر پراکندگی الکترون است ، نوعی اثر مجاورت ، بر روی سطح نمونه ، که منجر به قرار گرفتن در معرض مقاومت نامطلوب اضافی می شود که باید با الگوریتم های محاسبه فشرده اصلاح شود.نانو لیتوگرافی روبِشی یا (Scanning Nano Lithography) یکی دیگر از روشهای نانو لیتوگرافی مستقیم نوشتن است ، که در آن الگوها با اسکن نوک تیز نانومتری بر روی نمونه ایجاد می شوند تا تغییرات محلی ایجاد شود. برهم کنش های نمونه و نمونه متعدد است و می تواند شامل اثرات مکانیکی ، الکتریکی ، انتشار و حرارتی باشد.
از آنجا که دستگاههای نانو نوری با استفاده از فرایندهای مبتنی بر ویفر که در ساخت نیمه هادی تولید شده اند ، تولید می شوند ، این امر قابلیت اشتراک گذاری انعطاف پذیر در ظرفیت تولید را فراهم می کند و از توان تولیدی با حجم بالا پشتیبانی می کند. برخی از مواد می توانند باعث ایجاد ساختار های منظم و مقیاس نانو در شرایط مناسب و کنترل شده شوند-خود مونتاژ. مشکل این رویکرد عدم انعطاف پذیری در ساختار های قابل دستیابی و مصالح قابل استفاده است که عملکرد های قابل تحقق را محدود می کند.از مزایای این تکنیک می توان به الگوهای وسیع ، سادگی ، وضوح خوب و قابلیت ترکیب با سایر تکنیک های لیتوگرافی اشاره کرد. از سوی دیگر ، این تکنیک با توجه به اشکال محدود موجود برای مواد کاربردی الگو دار ، ترتیب برد نانو الگوها و وجود نقص نقطه ای ، مشکلاتی را ایجاد می کند.
نتیجه گیری :
نانو لیتوگرافی روبِشی یا Scanning Nano Lithography الگوی نانو اصلی یا بهبود یافته را در زمینه های کاربردی اعم از فناوری های کوانتومی تا علم مواد امکان پذیر می کند.
پژوهشگر و نویسنده: دکتر ( افشین رشید)
دکترایِ تخصصی نانو _ میکرو الکترونیک